Thetametrisis膜厚測量儀用于氧化釔（Y?O?）涂層厚度測量。它可快速準確地繪制大型氧化鋁陶瓷圓盤上的抗等離子涂層Y?O?層厚度。下面我們來看看用Thetametrisis膜厚測量儀測量氧化釔（Y?O?）涂層厚度的具體情況。
Thetametrisis膜厚測量儀測量氧化釔（Y?O?）的案例分析：
氧化釔（Y?O?）是一種非常有前景抗等離子涂層材料，且在集成電路中特征尺寸的持續(xù)減小應(yīng)用在化學機械拋光后的高度平整工藝用作化學機械平面化（CMP）的磨料，具有獷泛的應(yīng)用范圍。氧化釔（Y?O?）由于其較高的溫度穩(wěn)定性和對具有高氧親和力的堿性熔體的出色耐受性，還用于許多特殊應(yīng)用，例如絕緣體、玻璃、導電陶瓷、耐火材料、著色劑。其他應(yīng)用包括各種領(lǐng)域的透光材料，例如透鏡、棱鏡或玻璃，作為金屬-鐵電-絕緣體-半導體中合適的緩沖層，用于單晶體管 FeRAM 的結(jié)構(gòu)。在本應(yīng)用說明中，Thetametrisis膜厚測量儀用于在自動測量氧化鋁陶瓷盤上氧化釔的厚度分布圖。
為什么使用它，有什么目的和方法：
被測量的樣品是一個直徑為560mm表面帶有氧化釔（Y?O?）層的氧化鋁圓盤。使用Thetametrisis膜厚測量儀進行測量，光譜范圍為370nm-1020nm，能夠測量15nm至100um的涂層厚度。該機型通過旋轉(zhuǎn)和線性載物臺移動樣品來繪制待測樣品厚度分布圖。通過軟件行成的圖案包括樣品表面（R，theta）位置的208個點。
儀器的測量結(jié)果：
在下面的圖像中，氧化釔（Y?O?）層的理論值（紅線）和樣品表面反射光譜（綠線）與厚度分布圖一并呈現(xiàn)說明，如軟件上所見，樣品經(jīng)過數(shù)次重復(fù)性掃描測量以確定工具的準確性和可重復(fù)性，并得出統(tǒng)計數(shù)據(jù)。
結(jié)論：
使用Thetametrisis膜厚測量儀成功的測量鋁陶瓷盤的氧化釔（Y?O?）層的厚度分布。通過厚度測量并分析統(tǒng)計區(qū)域的厚度分布和均勻性，快速且無損地測量了薄膜厚度以保護陶瓷部件在等離子腔體中不受損壞。Thetametrisis膜厚測量儀是一種快速、準確測量大面積或預(yù)選位置上薄膜或疊層薄膜解決方案。
